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J-GLOBAL ID：200902159484004502   Reference number：02A0930203

ゾル・ゲルプロセスによる遷移金属イオンドーピングTiO₂膜の調整とその光触媒性能

Author (4)： TAKABATAKE NOBUYOSHI (石川工高専) ,  NAKAMURA SHIZUO (石川県工試) ,  KOJIMA MASAYUKI (金沢工大) ,  OHASHI KENTARO (金沢工大)
Material： 粉体粉末冶金協会講演概要集  (粉体粉末冶金協会大会講演概要集)
Volume： 2002  Issue： 秋季  Page： 214  Publication year： Nov. 12, 2002 
JST Material Number： F0815B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： sol-gel process ,...

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JST classification (1)： Photochemistry in general  (CB08010U)

Substance index (4)： Diethanolamine ,  Tetraethoxysilane ,  Methylene blue ,  Titanium(IV)tetraisopropoxide

Terms in the title (4)： 遷移金属イオン ,  ドーピング ,  TiO2 ,  触媒性能