Art

J-GLOBAL ID：200902160422034608   Reference number：01A0649278

Design of orientation stages for step and flash imprint lithography.

ステップ・フラッシュ・インプリント・リソグラフィーに対する定位台の設計

Author (5)： CHOI B J (Univ. Texas at Austin, TX, USA) ,  SREENIVASAN S V (Univ. Texas at Austin, TX, USA) ,  JOHNSON S (Univ. Texas at Austin, TX, USA) ,  COLBURN M (Univ. Texas at Austin, TX, USA) ,  WILSON C G (Univ. Texas at Austin, TX, USA)
Material： Precision Engineering  (Precis Eng)
Volume： 25  Issue： 3  Page： 192-199  Publication year： Jul. 2001 
JST Material Number： A0734B  ISSN： 0141-6359  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： 定位 ,  設計