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J-GLOBAL ID：200902161714174369   Reference number：01A0913633

The introducing of fluorine into the deposition of BN: a successful method to obtain high-quality, thick cBN films with low residual stress.

BNの蒸着へのふっ素の導入 残留応力の低い高品質なcBN厚膜を得るための有効な方法

Author (2)： MATSUMOTO S (National Inst. Materials Sci., Tsukuba-city, JPN) ,  ZHANG W J (National Inst. Materials Sci., Tsukuba-city, JPN)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 10  Issue： 9/10  Page： 1868-1874  Publication year： Sep. 2001 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *boron nitride ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Nitrogen and its compounds  (YB02050S)

Terms in the title (7)： BN ,  蒸着 ,  ふっ素 ,  残留応力 ,  高品質 ,  CBN ,  厚膜