Art

J-GLOBAL ID：200902161812060975   Reference number：01A0300410

100nm period silicon antireflection structures fabricated using a porous alumina membrane mask.

多孔質アルミナ膜をマスクに用いて作成した100nm周期シリコン反射防止構造

Author (4)： KANAMORI Y (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HANE K (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SAI H (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YUGAMI H (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 78  Issue： 2  Page： 142-143  Publication year： Jan. 08, 2001 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *antireflection film ,...
Semi thesaurus term： anodic oxidation

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A)

Terms in the title (6)： 多孔質 ,  アルミナ膜 ,  マスク ,  周期 ,  シリコン ,  反射防止構造