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J-GLOBAL ID：200902163426471033   Reference number：01A0185330

The Structure and Electrochemical Behavior of Nitrogen-Containing Nanocrystalline Diamond Films Deposited from CH₄/N₂/Ar Mixtures.

CH₄/N₂/Ar混合気体から析出させた窒素含有ナノ結晶性ダイヤモンド膜の構造と電気化学的挙動

Author (6)： CHEN Q (Argonne National Lab., Illinois, USA) ,  GRUEN D M (Argonne National Lab., Illinois, USA) ,  KRAUSS A R (Argonne National Lab., Illinois, USA) ,  CORRIGAN T D (Argonne National Lab., Illinois, USA) ,  WITEK M (Utah State Univ., Utah, USA) ,  SWAIN G M (Utah State Univ., Utah, USA)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 148  Issue： 1  Page： E44-E51  Publication year： Jan. 2001 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...

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JST classification (2)： Electrode process  (CB07040U) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Substance index (3)： Methane ,  Methylviologen ,  4-Methylcatechol

Terms in the title (8)： N2 ,  Ar ,  混合気体 ,  析出 ,  窒素 ,  ナノ結晶 ,  ダイヤモンド膜 ,  電気化学的挙動