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J-GLOBAL ID：200902164208761743   Reference number：01A0116866

Novel multi-alicyclic polymers for enhancing plasma etch resistance in 193 nm lithography.

193nmリソグラフィーにおけるプラズマエッチング抵抗性向上用の新規多重脂環式重合体

Author (3)： LEE J-H (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR) ,  AHN K-D (Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR) ,  CHO I (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
Material： Polymer
Volume： 42  Issue： 4  Page： 1757-1761  Publication year： Feb. 2001 
JST Material Number： D0472B  ISSN： 0032-3861  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoresist ,...

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JST classification (1)： Copolymerization  (CG04030D)

Substance index (2)： Tetracyclo[6.2.1.1^3,6.0^2,7]dodec-9-en-4-carboxylic acid=tert-butyl ,  Acetic acid tetracyclo[6.2.1.1^3,6.0^2,7]dodeca-4-ene-9-yl ester

Terms in the title (6)： リソグラフィー ,  プラズマエッチング ,  抵抗性 ,  多重 ,  脂環 ,  重合体