Art

J-GLOBAL ID：200902164500961966   Reference number：97A0586948

Using an elastomeric phase mask for sub-100nm photolithography in the optical near field.

光近視野内の100nm以下フォトリソグラフィーに対するエラストメトリック位相マスクの利用

Author (4)： ROGERS J A (Harvard Univ., Massachusetts) ,  PAUL K E (Harvard Univ., Massachusetts) ,  JACKMAN R J (Harvard Univ., Massachusetts) ,  WHITESIDES G M (Harvard Univ., Massachusetts)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 70  Issue： 20  Page： 2658-2660  Publication year： May. 19, 1997 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： polarizer (light) ,...
Semi thesaurus term： near field(optics) ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Polarimetry and polarimeters  (BD07050K)

Terms in the title (4)： 近視野 ,  フォトリソグラフィー ,  位相 ,  マスク