Art

J-GLOBAL ID：200902164500961966   Reference number：97A0586948

Using an elastomeric phase mask for sub-100nm photolithography in the optical near field.

光近視野内の100nm以下フォトリソグラフィーに対するエラストメトリック位相マスクの利用

Author (4)： ROGERS J A (Harvard Univ., Massachusetts) ,  PAUL K E (Harvard Univ., Massachusetts) ,  JACKMAN R J (Harvard Univ., Massachusetts) ,  WHITESIDES G M (Harvard Univ., Massachusetts)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 70  Issue： 20  Page： 2658-2660  Publication year： May. 19, 1997 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： polarizer(light) ,...
Semi thesaurus term： near field(optics) ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0586948&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Polarimetry and polarimeters  (BD07050K)

Terms in the title (3)： 近視野 ,  フォトリソグラフィー ,  位相マスク