Art

J-GLOBAL ID：200902164677219976   Reference number：97A1030319

Electrical properties of very thin Al203 films prepared by magnetron sputtering enhanced with an inductively coupled rf plasma.

誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法による極薄アルミナ膜電気特性

Author (4)： MORITA TADASHI (日本真空技術) ,  YAMAMOTO TADASHI (日本真空技術) ,  KURAUCHI TOSHIHARU (日本真空技術) ,  MATSUURA MASAMICHI (日本真空技術)
Material： 日本応用磁気学会学術講演概要集  (Digest of the Annual Conference on Magnetics in Japan)
Volume： 21  Page： 313  Publication year： Oct. 1997 
JST Material Number： Y0056A  ISSN： 1340-8100  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Reference (1)：

• MORITA. 4th ISSP'97. 1997, 405

Terms in the title (6)： 誘導結合 ,  RFプラズマ ,  支援 ,  マグネトロンスパッタ法 ,  アルミナ膜 ,  電気特性