Art

J-GLOBAL ID：200902165365689858   Reference number：99A0453435

A low-energy ion beam system for studying energetic ion deposition on Silicon surfaces.

シリコン表面上の高エネルギーイオン蒸着研究のための低エネルギーイオンビームシステム

Author (1)： SHOJI F (Kyushu Kyoritsu Univ., Fukuoka, JPN)
Material： Vacuum
Volume： 53  Issue： 3/4  Page： 459-464  Publication year： Jun. 1999 
JST Material Number： E0347A  ISSN： 0042-207X  Document type： Article
Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： シリコン ,  高エネルギーイオン ,  蒸着 ,  研究 ,  低エネルギーイオン ,  ビーム