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J-GLOBAL ID：200902165892503827   Reference number：02A0599289

Effect of patterning on thermal agglomeration of ultrathin silicon-on-insulator layer.

絶縁体上シリコン(SOI)超薄膜層の熱凝塊化に及ぼすパターン形成の影響

Author (4)： ISHIKAWA Y (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN) ,  KUMEZAWA M (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN) ,  NURYADI R (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN) ,  TABE M (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
Material： Applied Surface Science  (Appl Surf Sci)
Volume： 190  Issue： 1/4  Page： 11-15  Publication year： May. 08, 2002 
JST Material Number： B0707B  ISSN： 0169-4332  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *SOI structure ,...
Semi thesaurus term： アグロメレーション

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Terms in the title (6)： 絶縁体 ,  シリコン ,  SOI ,  薄膜層 ,  凝塊化 ,  パターン形成