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J-GLOBAL ID：200902165961978956   Reference number：99A0975352

自己抑制酸化を利用して作成したSi極細線の評価

Author (6)： TSUTSUMI TOSHIYUKI (電総研) ,  SUZUKI EIICHI (電総研) ,  ISHII KEN'ICHI (電総研) ,  KANEMARU SEIGO (電総研) ,  MAEDA TATSURO (電総研) ,  TOMIZAWA KAZUTAKA (明治大 理工)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 60th  Issue： 2  Page： 824  Publication year： Sep. 01, 1999 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (5)： 自己 ,  酸化 ,  Si ,  極細線 ,  評価