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J-GLOBAL ID：200902166556135891   Reference number：99A0042852

Highly Photosensitive Diazo Compounds as Photoacid Generators for Chemically Amplified Resists.

化学増幅レジスト用の光酸発生剤としての高感光性のジアゾ化合物

Author (5)： HARADA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  KUSHIDA M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SAITO K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SUGITA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  IIDA H (Toyo Goshei Kogyo Co., Chiba, JPN)
Material： ACS Symposium Series (American Chemical Society)  (ACS Symp Ser (Am Chem Soc))
Issue： 706  Page： 126-133  Publication year： 1998 
JST Material Number： H0588B  ISSN： 0097-6156  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (4)： 化学増幅レジスト ,  光酸発生剤 ,  感光性 ,  ジアゾ化合物