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J-GLOBAL ID：200902168004697740   Reference number：97A0282693

Deposition of large area amorphous silicon films by ECR plasma CVD.

ECRプラズマCVDによる大面積非晶質シリコン膜の蒸着

Author (4)： UEDA Y (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  INOUE Y (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  SHINOHARA S (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAWAI Y (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
Material： Vacuum
Volume： 48  Issue： 2  Page： 119-122  Publication year： Feb. 1997 
JST Material Number： E0347A  ISSN： 0042-207X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： electron cyclotron resonance plasma ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (6)： ECRプラズマ ,  CVD ,  大面積 ,  非晶質 ,  シリコン膜 ,  蒸着