Art

J-GLOBAL ID：200902169519496425   Reference number：02A0685918

Fabrication of Nanometer-Scale Pattern Using Current-Controlled Scanning Probe Lithography.

電流制御式の走査型プローブリソグラフィー

Author (5)： MIYAZAKI T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KOBAYASHI K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  YAMADA H (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  HORIUCHI T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MATSUSHIGE K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 7B  Page： 4948-4951  Publication year： Jul. 30, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *scanning probe microscope ,...
Semi thesaurus term： ナノギャップ

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (14)：

• 1) D. G. Gordon, M. S. Montemerlo, J. C. Love, G. J. Opiteck and J. C. Ellenbogen: Proc. IEEE 85 (1997) 521.
• 2) F. L. Carter: Molecular Electronic Devices (Marcel Dekker, New York, 1983).
• 3) N. Kramer, H. Brik, J. Jorritsma and C. Schonenberger: Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 1325.
• 4) S. Hu, A. Hamidi, S. Altmeyer, T. Koster, B. Spangenberg and H. Kurz: J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 2822.
• 5) K. Hironaka, N. Aoki, H. Hori and S. Yamada: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 3839.

Terms in the title (2)： 電流制御 ,  走査型