Art

J-GLOBAL ID：200902172149425974   Reference number：97A0667560

Loss Processes of CF and CF₂ Radicals in the Afterglow of High-Density CF₄ Plasmas.

高密度CF₄プラズマのアフタグローにおけるCFおよびCF₂ラジカルの損失プロセス

Author (3)： SUZUKI C (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SASAKI K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  KADOTA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 36  Issue： 6B  Page： L824-L826  Publication year： Jun. 15, 1997 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： afterglow ,...
Semi thesaurus term： carbon tetrafluoride

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JST classification (1)： Plasma diagnostics  (BJ02090L)

Reference (11)：

• 1) S. Samukawa: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 2133
• 2) J. P. Booth, G. Hancock, N. D. Perry and M. J. Toogood: J. Appl. Phys. 66 (1989) 5251
• 3) R. C. Reid, J. M. Prausnitz and T. K. Sherwood: The Properties of Gases and Liquids (McGraw-Hill, New York, 1977) Chap. 11.
• 4) T. Arai, M. Goto, Y. Asoh, D. Takayama and T. Shimizu: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) L1469.
• 5) C. Suzuki and K. Kadota: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 2569

Terms in the title (6)： プラズマ ,  アフタグロー ,  Cf ,  ラジカル ,  損失 ,  プロセス