Art

J-GLOBAL ID：200902172976407226   Reference number：99A0370486

Chelating Resins and Their Applications in the Analysis of Trace Metal Ions.

痕跡量金属イオンの分析におけるキレート高分子とその応用

Author (4)： GARG B S (Univ. Delhi, Delhi, IND) ,  SHARMA R K (Univ. Delhi, Delhi, IND) ,  BHOJAK N (Univ. Delhi, Delhi, IND) ,  MITTAL S (Univ. Delhi, Delhi, IND)
Material： Microchemical Journal  (Microchem J)
Volume： 61  Issue： 2  Page： 94-114  Publication year： Feb. 1999 
JST Material Number： D0072A  ISSN： 0026-265X  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Solid Phase Extraction ,...
Semi thesaurus term： *chelating polymer

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JST classification (2)： Other properties of polymer solids  (CG02025L) ,  Physical methods of separation methods  (CC01030W)

Terms in the title (5)： 痕跡 ,  金属イオン ,  分析 ,  キレート高分子 ,  応用