Art

J-GLOBAL ID：200902173012463654   Reference number：02A0278743

Silicon Nanoneedles Grown by a Simple Thermal Treatment Using Metal-Sulfur Catalysts.

金属-硫黄触媒を使った簡単な熱処理により成長させたシリコンナノニードル

Author (2)： KOHNO H (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAKEDA S (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 2A  Page： 577-578  Publication year： Feb. 15, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0278743&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (7)：

• 1) H. Kohno and S. Takeda: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 3144.
• 2) H. Kohno, S. Takeda and K. Tanaka: J. Electron Microsc. 49 (2000) 275.
• 3) H. Kohno and S. Takeda: J. Cryst. Growth 216 (2000) 185.
• 4) H. Kohno, T. Iwasaki and S. Takeda: Solid State Commun. 116 (2000) 591.
• 5) R. S. Wagner and W. C. Ellis: Appl. Phys. Lett. 4 (1964) 89.

Terms in the title (6)： 硫黄 ,  触媒 ,  熱処理 ,  成長 ,  シリコン ,  ナノニードル