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J-GLOBAL ID：200902174265196454   Reference number：96A0336461

Nanoparticle deposition in hydrogenated amorphous silicon films during rf plasma deposition.

rfプラズマ蒸着における水素化非晶質シリコン膜中のナノ粒子の蒸着

Author (3)： TANENBAUM D M (Univ. Colorado, Colorado) ,  LARACUENTE A L (Univ. Colorado, Colorado) ,  GALLAGHER A (Univ. Colorado, Colorado)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 68  Issue： 12  Page： 1705-1707  Publication year： Mar. 18, 1996 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (6)： RFプラズマ ,  蒸着 ,  水素化 ,  非晶質 ,  シリコン膜 ,  ナノ粒子