Art

J-GLOBAL ID：200902174601095580   Reference number：96A0167367

Simultaneous mass-analyzed positive and negative low-energy ion beam deposition apparatus.

質量分析した正負低エネルギーイオンビームの同時蒸着装置

Author (5)： HORINO Y (AIST(ONRI), Osaka, JPN) ,  TSUBOUCHI N (AIST(ONRI), Osaka, JPN) ,  FUJII K (AIST(ONRI), Osaka, JPN) ,  NAKATA T (Ion Engineering Res. Inst. Corp.(IERIC), Osaka, JPN) ,  TAKAGI T (Ion Engineering Res. Inst. Corp.(IERIC), Osaka, JPN)
Material： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
Volume： 106  Issue： 1/4  Page： 657-661  Publication year： Dec. 1995 
JST Material Number： H0899A  ISSN： 0168-583X  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ion beam deposition ,...

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JST classification (2)： Electron and ion sources  (BD02020U) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (4)： 質量分析 ,  低エネルギーイオン ,  ビーム ,  同時蒸着