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J-GLOBAL ID：200902174602864863   Reference number：01A1057818

Platinum Hillocks in Pt/Ti Film Stacks Deposited on Thermally Oxidized Si Substrate.

熱酸化したSi基板上に堆積させたPt/Ti膜積層における白金の小丘

Author (4)： KWEON S Y (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR) ,  CHOI S K (Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR) ,  YEOM S J (HYUNDAI Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR) ,  ROH J S (HYUNDAI Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 40  Issue： 10  Page： 5850-5855  Publication year： Oct. 15, 2001 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： thermal oxidation ,...

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JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  LCR parts  (NA05030D)

Reference (14)：

• 1) J. F. Scott and C. A. Paz de Arauzo: Science 246 (1989) 1400.
• 2) C. A. Paz de Arauzo, J. D. Cuchiaro, L. D. McMillan, M. C. Scott and J. F. Scott: Nature 374 (1995) 627.
• 3) K. J. Cho, J. K. Lee, H. J. Jung and J. W. Park: J. Vac. Sci. & Technol. A <B>16</B> (1998) 1258.
• 4) G. Schindler, W. Hartner, V. Joshi, N. Solayappan, G. Derbenwick and C. Mazure: Integrat. Ferroelectr. 17 (1997) 421.
• 5) H. Takasu: Integrat. Ferroelectr. 14 (1997) 1.

Terms in the title (7)： 熱酸化 ,  Si基板 ,  堆積 ,  PT ,  Ti膜 ,  白金 ,  丘