Art

J-GLOBAL ID：200902174842528305   Reference number：95A0788461

Surface Morphologies of Hydrogenated Amorphous Silicon at the Early Stages of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition.

プラズマ促進化学蒸着の初期段階における水素化非晶質シリコンの表面形態

Author (4)： DEKI H (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  FUKUDA M (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  MIYAZAKI S (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN) ,  HIROSE M (Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 34  Issue： 8B  Page： L1027-L1030  Publication year： Aug. 15, 1995 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=95A0788461&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0599B") }}

JST classification (2)： Surface structure of semiconductors  (BK15030A) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (10)：

• TOYOSHIMA, Y. Appl.Phys.Lett. 1990, 56, 1540
• BLAYO, N. J.Non-Cryst.Solids. 1991, 137 & 138, 771
• MIYAZAKI, S. Jpn.J.Appl.Phys. 1995, 34, 787
• KNIGHTS, J. C. J.Non-Cryst.Solids. 1980, 35 & 36, 159
• MIYAZAKI, S. J.Non-Cryst.Solids. 1989, 114, 774

Terms in the title (5)： プラズマ促進化学蒸着 ,  初期段階 ,  水素化 ,  非晶質シリコン ,  表面形態