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J-GLOBAL ID：200902175354579371   Reference number：98A0852204

Thermal Stability of Silicon-Containing Methacrylate Based Bilayer Resist for 193nm Lithography.

シリコンの熱安定性 193nmリソグラフィー用のメタクリル樹脂系二層レジストの含有

Author (4)： WHITE D (Olin Microelectronic Materials, RI) ,  BEAUCHEMIN B T JR (Olin Microelectronic Materials, RI) ,  BLAKENEY A J (Olin Microelectronic Materials, RI) ,  STEINHAEUSLER T (Olin Microelectronic Materials, RI)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3333  Issue： Pt.1  Page： 132-143  Publication year： 1998 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (5)： シリコン ,  熱安定性 ,  リソグラフィー ,  メタクリル樹脂 ,  レジスト