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J-GLOBAL ID：200902177005874270   Reference number：00A0974073

Structures of the main precursors and initial decomposition products of diborane chemical vapor deposition: an experimental and ab initio molecular orbital study.

ジボラン化学蒸着の主要前駆体及び初期分解生成物の構造 実験及びab initio分子軌道研究

Author (4)： SATO K (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  KANDA N (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  OGATA T (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  KUMASHIRO Y (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
Material： Chemical Physics Letters  (Chem Phys Lett)
Volume： 325  Issue： 4  Page： 453-456  Publication year： Jul. 28, 2000 
JST Material Number： B0824A  ISSN： 0009-2614  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (8)： ジボラン ,  化学蒸着 ,  前駆体 ,  初期 ,  分解生成物 ,  実験 ,  分子軌道 ,  研究