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J-GLOBAL ID：200902177529665082   Reference number：01A0700122

Characterization of Si wafer Surfaces after Wet Chemical Treatment by the Microwave Reflectance Photconductivity Decay Method with Surface Electric Field.

表面電場を利用してマイクロ波反射光伝導率減衰法による湿式化学処理した後のSiウエハ表面の評価

Author (6)： TADA A (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  HIRANO M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  ICHIMURA M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  ARAI E (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  TAKAMATSU H (Kobe Steel, Ltd., Kobe, JPN) ,  SUMIE S (Kobe Steel, Ltd., Kobe, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 40  Issue： 5A  Page： 3069-3074  Publication year： May. 15, 2001 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *surface treatment ,...

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JST classification (2)： Electronic structure of surfaces  (BM02080J) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (13)：

• 1) T. M. Buck and F. S. McKim: J. Electrochem. Soc. 105 (1958) 709.
• 2) T. S. Horanyi, T. Pavelka and P. Tutto: Appl. Surf. Sci. 63 (1993) 306.
• 3) M. Schofthaler, R. Brendel, G. Langguth and J. H. Werner: Proc. 1st Conf. Photovoltaic Energy Conversion (IEEE, New York, 1994) p. 1509.
• 4) M. Ichimura, M. Hirano, N. Kato, E. Arai, H. Takamatsu and S. Sumie: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) L292.
• 5) M. Ichimura, M. Hirano, A. Tada, E. Arai, H. Takamatsu and S. Sumie: Mater. Sci. Eng. B 73 (2000) 230.

Terms in the title (8)： 電場 ,  マイクロ ,  波反射 ,  光伝導率 ,  減衰 ,  化学処理 ,  Siウエハ ,  評価