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J-GLOBAL ID：200902178470155030   Reference number：01A0283027

Properties of amorphous ternary alloy films a-Si_xC_yGe_z:H prepared by magnetron co-sputtering.

マグネトロン同時スパッタリングにより作製した非晶質三元合金膜a-Si_xC_yGe_z:Hの諸性質

Author (5)： SAITO N (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN) ,  NAKAAKI I (Fuji Industrial Res. Inst. Shizuoka Prefecture, Fuji, JPN) ,  NAKAMURA S (Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN) ,  YOSHIOKA S (Kagawa Univ., Takamatsu, JPN) ,  YAMAGUCHI T (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
Material： Applied Surface Science  (Appl Surf Sci)
Volume： 169/170  Page： 472-475  Publication year： Jan. 15, 2001 
JST Material Number： B0707B  ISSN： 0169-4332  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon carbide ,...

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Photoconduction,photoelectromotive force  (BM03050J)

Terms in the title (6)： マグネトロン ,  同時スパッタリング ,  作製 ,  非晶質 ,  三元合金 ,  性質