Art

J-GLOBAL ID：200902179335390123   Reference number：02A0170169

Two-dimensional modeling and optimization of a neutral loop discharge etcher in an argon plasma.

アルゴンプラズマ中での中性ループ放電エッチング装置の二次元モデリングおよび最適化

Author (5)： OKRAKU-YIRENKYI Y (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  SUNG Y-M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  OTSUBO M (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  HONDA C (Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN) ,  SAKODA T (Sojo Univ., Kumamoto, JPN)
Material： Surface & Coatings Technology  (Surf Coat Technol)
Volume： 149  Issue： 2/3  Page： 185-191  Publication year： Jan. 15, 2002 
JST Material Number： D0205C  ISSN： 0257-8972  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma production ,...
Semi thesaurus term： 磁気中性ループプラズマ

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JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (8)： アルゴン ,  プラズマ ,  中性 ,  ループ ,  放電 ,  エッチング装置 ,  モデリング ,  最適化