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J-GLOBAL ID：200902179378920843   Reference number：00A0145235

Characterization of Amorphous Ni-Si Binary Alloy Films by Flash Evaporation.

フラッシュ蒸着によるアモルファスNi-Si二元合金膜の特性化

Author (3)： KODAMA J (Kinki Univ., Osaka, JPN) ,  TSUBOI T (Kinki Univ., Osaka, JPN) ,  OKAMOTO N (Kinki Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Electronic Materials  (J Electron Mater)
Volume： 28  Issue： 12  Page： 1461-1465  Publication year： Dec. 1999 
JST Material Number： D0277B  ISSN： 0361-5235  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *binary alloy ,...

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JST classification (2)： Materials of solid-state devices  (NC03020K) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (6)： フラッシュ蒸着 ,  アモルファス ,  Ni ,  Si ,  二元合金 ,  特性化