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J-GLOBAL ID：200902180384124623   Reference number：98A0464489

Fabrication of ultra-thin alumina film using an inductive coupling rf plasma enhancement magnetron sputtering technique.

誘導結合rfプラズマ支援マグネトロンスパッタ法を用いた極薄アルミナ膜の作製

Author (4)： MORITA TADASHI (日本真空技術) ,  YAMAMOTO NAOSHI (日本真空技術) ,  KURAUCHI TOSHIHARU (日本真空技術) ,  MATSUURA MASAMICHI (日本真空技術)
Material： 真空に関する連合講演会講演予稿集
Volume： 38th  Page： 86-87  Publication year： 1997 
JST Material Number： L1308A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (7)： 誘導結合 ,  RFプラズマ ,  支援 ,  マグネトロンスパッタ法 ,  極 ,  アルミナ膜 ,  作製