Outlook for 157-nm resist design.

KUNZ R R; BLOOMSTEIN T M; HARDY D E; GOODMAN R B; DOWNS D K; CURTIN J E

Art

J-GLOBAL ID：200902181955502554 Reference number：99A0795748

Outlook for 157-nm resist design.

157nmレジスト設計のための見通し

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Volume： 3678 Issue： Pt.1 Page： 13-23 Publication year： 1999
JST Material Number： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA) Language： ENGLISH (EN)

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