Art

J-GLOBAL ID：200902185202460137   Reference number：00A0223369

A plasma process for ultrafast deposition of SiGe graded buffer layers.

SiGe傾斜組成バッファ層の超高速蒸着に対するプラズマ過程

Author (5)： ROSENBLAD C (ETH-Zuerich, Zuerich, CHE) ,  VON KAENEL H (ETH-Zuerich, Zuerich, CHE) ,  KUMMER M (Interstaatliche Fachhochsch. Technik Buchs, Buchs, CHE) ,  DOMMANN A (Interstaatliche Fachhochsch. Technik Buchs, Buchs, CHE) ,  MUELLER E (PSI, Villigen, CHE)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 76  Issue： 4  Page： 427-429  Publication year： Jan. 24, 2000 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0223369&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (6)： SiGe ,  傾斜組成 ,  バッファ層 ,  蒸着 ,  プラズマ ,  過程