Art

J-GLOBAL ID：200902187166595368   Reference number：97A0088471

Compositional control and high-rate deposition of sputtered ferroelectric thin films.

強誘電体スパッタ薄膜の組成制御および高速成膜技術

Author (4)： SU KOKO (日本真空技術) ,  NISHIOKA YUTAKA (日本真空技術) ,  OSAWA AKIRA (日本真空技術) ,  TANI NORIAKI (日本真空技術)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 65  Issue： 12  Page： 1248-1252  Publication year： Dec. 1996 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *ferroelectrics ,...
Semi thesaurus term： PZT ,...

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JST classification (2)： Crystal growth of oxides  (BK13050I) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Reference (15)：

• 1) 日刊工業新聞 (1996年8月26日).
• 2) 日刊工業新聞 (1996年9月17日).
• 3) S. Yamamichi, T. Sakuma, K. Takamura and Y. Miyasaka: Jpn. J. Appl. Phys. 30, 2193 (1991).
• 4) K. Abe and S. Komatsu: Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2985 (1992).
• 5) T. Kuroiwa, T. Honda, H. Watarai and K. Sato: Jpn. J. Appl. Phys. 31, 3025 (1992).

Terms in the title (5)： 強誘電体 ,  スパッタ ,  薄膜 ,  組成制御 ,  高速成膜