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J-GLOBAL ID：200902191476663620   Reference number：00A0908544

193nm Photoresists At 130nm Node: Which Lithographic Performances For Which Chemical Platform?

Author (8)： AMBLARD G (International SEMATECH, TX, USA) ,  BYERS J (International SEMATECH, TX, USA) ,  DOMKE W-D (International SEMATECH, TX, USA) ,  RICH G (International SEMATECH, TX, USA) ,  GRAFFENBERG V (International SEMATECH, TX, USA) ,  PATEL S (International SEMATECH, TX, USA) ,  MILLER D (International SEMATECH, TX, USA) ,  PEREZ G (International SEMATECH, TX, USA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 3999  Issue： Pt.1  Page： 32-53  Publication year： 2000 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)