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J-GLOBAL ID：200902192218764736   Reference number：00A0304572

Influence of Substrate Bias on Hydrogenated Amorphous Carbon Films Prepared by VHF Sputtering.

VHFスパッタリング法により作製した水素化アモルファス炭素薄膜の基板バイアスの効果

Author (4)： MATSUI KENJI (琉球大 大学院) ,  KIYUNA TATSUYA (東芝) ,  HIGA AKIRA (琉球大 工) ,  TOGUCHI MINORU (琉球大 工)
Material： 琉球大学工学部紀要  (Bulletin of the Faculty of Engineering, University of the Ryukyus)
Issue： 59  Page： 101-106  Publication year： Mar. 01, 2000 
JST Material Number： Z0656B  ISSN： 0389-102X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *thin film growth ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (6)： VHF ,  スパッタリング法 ,  作製 ,  水素化アモルファス炭素 ,  薄膜 ,  基板バイアス