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J-GLOBAL ID：200902192407058699   Reference number：00A0466862

A Model for Predicting Preferential Orientation of Chemical-Vapor-Deposited Films.

化学蒸着膜の優先配向を予測するモデル

Author (3)： NISHIOKA K (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MIZUTANI N (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  KOMIYAMA H (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 147  Issue： 4  Page： 1440-1442  Publication year： Apr. 2000 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (5)： 化学 ,  蒸着膜 ,  優先配向 ,  予測 ,  モデル