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J-GLOBAL ID：200902194401736795   Reference number：94A0902804

A theoretical study on the fundamental reactions of Ti/TiN CVD. part 1.

Ti/TiN CVD成膜の反応素過程の理論的研究 (1)

Author (5)： MOCHIZUKI YUJI (NEC) ,  OKAMOTO YASUJI (NEC) ,  ISHITANI AKIHIKO (NEC) ,  HIROSE KAZUYUKI (NEC) ,  TAKADA TOSHIKAZU (NEC)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 55th  Issue： 2  Page： 673  Publication year： Sep. 1994 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (7)： Ti ,  TiN ,  CVD ,  成膜 ,  素過程 ,  理論 ,  研究