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J-GLOBAL ID：200902196224008264   Reference number：01A1036248

Resistivity Increase in Ultrafine-Line Copper Conductor for ULSIs.

ULSI用の極微細銅細線導体における抵抗率増加

Author (4)： HINODE K (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  HANAOKA Y (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  TAKEDA K (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN) ,  KONDO S (Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 40  Issue： 10B  Page： L1097-L1099  Publication year： Oct. 15, 2001 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： VLSI ,...
Semi thesaurus term： mean free path

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JST classification (1)： Electronic conduction in crystalline metals  (BM03033M)

Reference (8)：

• 1) E. H. Sondheimer: Phys. Rev. 80 (1950) 401.
• 2) T. J. Coutts and G. G. Mathews: Proc. Phys. Soc. 90 (1967) 3144.
• 3) H.-D. Liu, Y.-P. Zhao, G. Ramanath, S. P. Murarka and G.-C. Wang: Thin Solid Films 384 (2001) 151.
• 4) T. S. Kuan, C. K. Itoki, G. S. Oehrlein, K. Rose, Y.-P. Zhao, G.-C. Wang, S. M. Rossnagel and C. Cabral: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (Material Research Society, Warrendale, 2000) Vol. 612, D7.1.
• 5) M. S. P. Lucas: J. Appl. Phys. 36 (1965) 1632.

Terms in the title (7)： ULSI ,  極 ,  微細 ,  銅 ,  細線 ,  導体 ,  抵抗率