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J-GLOBAL ID：200902196815289513   Reference number：01A0976291

Nanoscale patterning of Si(100) surfaces by scratching through the native oxide layer using atomic force microscope.

原子間力顕微鏡を用いた自然の酸化物層の引っかきによるSi(100)表面のナノスケールのパターンづけ

Author (3)： SANTINACCI L (Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU) ,  DJENIZIAN T (Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU) ,  SCHMUKI P (Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 79  Issue： 12  Page： 1882-1884  Publication year： Sep. 17, 2001 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Copper ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： 原子間力顕微鏡 ,  酸化物層 ,  Si ,  ナノスケール