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J-GLOBAL ID：200902198838594553   Reference number：02A0278785

Effect of High-Temperature Annealing in Vacuum and Hydrogen on Paramagnetic Defects in Diamond Films Grown by Chemical Vapor Deposition.

化学気相成長法によって成長させたダイヤモンド膜中の常磁性欠陥におよぼす真空中と水素中での高温焼なましの影響

Author (4)： WATANABE I (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN) ,  YATA M (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN) ,  KANATANI M (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN) ,  KAWAGUCHI Y (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 41  Issue： 2A  Page： 770-774  Publication year： Feb. 15, 2002 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *carbon ,...

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JST classification (1)： EPR of other inorganic compounds  (BM07023D)

Reference (17)：

• 1) D. C. Ingram, J. C. Keay, C. Tang, M. L. Lake and J. M. Ting: Diamond & Relat. Mater. 2 (1993) 1414.
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• 5) A. Kimura, Y. Nakatani, K. Yamada and T. Suzuki: Diamond & Relat. Mater. 8 (1999) 37.

Terms in the title (8)： 化学気相成長法 ,  成長 ,  ダイヤモンド膜 ,  常磁性 ,  欠陥 ,  真空 ,  水素 ,  焼なまし