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J-GLOBAL ID：200902198938309724   Reference number：00A0086137

Effect of capacitive coupling on inductively coupled fluorocarbon plasma processing.

誘導結合フルオロカーボンプラズマプロセシングにおける容量結合の効果

Author (7)： SCHAEPKENS M (State Univ. New York, New York) ,  RUEGER N R (State Univ. New York, New York) ,  BEULENS J J (State Univ. New York, New York) ,  LI X (State Univ. New York, New York) ,  STANDAERT T E F M (State Univ. New York, New York) ,  MATSUO P J (State Univ. New York, New York) ,  OEHRLEIN G S (State Univ. New York, New York)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science and Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films)
Volume： 17  Issue： 6  Page： 3272-3280  Publication year： Nov. 1999 
JST Material Number： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *aliphatic fluorine compound ,...

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JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： 誘導結合 ,  容量結合