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J-GLOBAL ID：200902208217419176   Reference number：09A0561488

Analysis of higher order pitch division for sub-32nm lithography

32nm以下用のの高次のピッチ分割の解析

Author (2)： XIE Peng (Rochester Inst. Technol., NY) ,  SMITH Bruce W. (Rochester Inst. Technol., NY)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 7274  Issue： Pt.2  Page： 72741Y.1-72741Y.8  Publication year： 2009 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  *far field (optics) ,  limit ,  high-resolution ,  *length ,  division and resolution ,  pitch (machine element) ,  *limit size
Semi thesaurus term： *limit size ,  ピッチ分割

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： ピッチ分割 ,  解析