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J-GLOBAL ID：200902215204741857   Reference number：09A0138805

Graphoepitaxy of Organic Semiconductor

応用を視野においた有機半導体の結晶成長 有機半導体のグラフォエピタキシー

Author (7)： IKEDA SUSUMU (東北大 原子分子材料科学高等研究機構) ,  WADA YASUO (東洋大) ,  INABA KATSUHIKO (リガク) ,  TERASHIMA KAZUO (東大 大学院新領域創成科学研究科) ,  SHIMADA TOSHIHIRO (東大 大学院理学系研究科) ,  SAIKI KOICHIRO (東大 大学院新領域創成科学研究科) ,  SAIKI KOICHIRO (東大 大学院理学系研究科)
Material： 日本結晶成長学会誌  (Journal of the Japanese Association of Crystal Growth)
Volume： 35  Issue： 4  Page： 243-248  Publication year： 2008 
JST Material Number： F0452B  ISSN： 0385-6275  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *molecular orientation ,  *epitaxy ,  crystal orientation ,  micro structure ,  *organic semiconductor ,  *vapor deposition ,  X-Ray Diffraction ,  atomic force microscope ,  *electrical conductivity ,  semiconductor thin film
Semi thesaurus term： graphoepitaxy ,  分子蒸着

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Substance index (1)： α-Sexithiophene

Reference (30)：

• HOROWITZ, G. Adv. Mater. 1998, 10, 365
• DIMITRAKOPOULOS, C. D. Adv. Mater. 2002, 14, 99
• NEWMAN, C. R. Chem. Mater. 2004, 16, 4436
• CHWANG, A. B. J. Appl. Phys. 2001, 90, 1342
• UEDA, Y. Thin Solid Films. 1998, 331, 216

Terms in the title (5)： 応用 ,  視野 ,  有機半導体 ,  結晶成長 ,  グラフォエピタキシー