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J-GLOBAL ID：200902215364023012   Reference number：09A0201314

Porous carbon film electrodes prepared by pulsed discharge plasma CVD

パルス放電プラズマCVDによって作製された多孔質カーボン膜電極

Author (5)： NODA Mikio (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  YUKAWA Hiroyuki (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  MATSUSHIMA Masahiro (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  UCHIDA Hideo (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN) ,  UMENO Masayoshi (Dep. of Electronics and Information Engineering, Chubu Univ., Kasugai, Aichi 487-8501, JPN)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 18  Issue： 2-3  Page： 426-428  Publication year： Feb. 2009 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *carbon electrode ,  carbon material ,  mineral synthesis ,  *plasma CVD ,  transition metal catalyst ,  Cobalt ,  Iron ,  composite film ,  evaporated film ,  nanostructure ,  electrical property ,  pulsed discharge ,  *porous electrode

JST classification (2)： Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Electrolytic equipment  (XE02030E)

Terms in the title (6)： パルス放電 ,  プラズマCVD ,  作製 ,  多孔質 ,  カーボン ,  膜電極