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J-GLOBAL ID：200902215845469669   Reference number：06A0237789

DNA-Templated Copper Nanowire Fabrication by a Two-Step Process Involving Electroless Metallization

無電解メタライゼーションを含む2段階プロセスによるDNAテンプレーテッド銅ナノ細線製作

Author (2)： KUDO Hidetoshi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  FUJIHIRA Masamichi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
Material： IEEE Transactions on Nanotechnology  (IEEE Trans Nanotechnol)
Volume： 5  Issue： 2  Page： 90-92  Publication year： Mar. 2006 
JST Material Number： W1355A  ISSN： 1536-125X  CODEN： ITNECU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： fine line ,...
Semi thesaurus term： *ナノ細線 ,...

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JST classification (3)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Gene replication  (EC02030F) ,  Electroless plating  (WC08024S)

Terms in the title (8)： 電解 ,  メタライゼーション ,  2段階プロセス ,  DNA ,  テン ,  銅 ,  ナノ細線 ,  製作