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J-GLOBAL ID：200902220172483242   Reference number：04A0550579

Stress reduction in a-C:H coatings through the addition of nitrogen to the feed gas

供給ガスへの窒素添加を介するa-C:H膜の応力低減

Author (6)： RABBANI F (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  GALINDO R E (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  ARNOLDBIK W M (Utrecht Univ., Utrecht, NLD) ,  VAN DER ZWAAG S (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  VAN VEEN A (Delft Univ. Technol., Delft, NLD) ,  SCHUT H (Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
Material： Diamond and Related Materials  (Diam Relat Mater)
Volume： 13  Issue： 9  Page： 1645-1657  Publication year： Sep. 2004 
JST Material Number： W0498A  ISSN： 0925-9635  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： stress relieving ,...
Semi thesaurus term： ERD Analysis

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Substance index (1)： Methane

Terms in the title (2)： 窒素添加 ,  応力低減