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J-GLOBAL ID：200902221847256921   Reference number：03A0682110

Preparation of TiO₂ Films with High Photocatalytic Activities by Gas Flow Sputtering

ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO₂膜の高速堆積

Author (3)： ISHII KIYOSHI (宇都宮大 工) ,  KUROKAWA KAZUNARI (宇都宮大 工) ,  YOSHIHARA SACHIO (宇都宮大 大学院)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
Volume： 103  Issue： 245(CPM2003 61-71)  Page： 51-56  Publication year： Aug. 01, 2003 
JST Material Number： S0532B  ISSN： 0913-5685  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *metallic thin film ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (11)：

• HONDA, K. Electrochemical photolysis of water at semiconductor electrode. Nature. 1972, 238, 37-38
• WATANABE, T. Photocatalytic activity and photoinduced hydrophilicity of titanium dioxide coated glass. Thin Solid Films. 1999, 351, 260-263
• WEINBERGER, B. R. Titanium dioxide photocatalysts produced by reactive magnetron sputtering. App. Phys. Lett. 1995, 66, 18, 2409-2411
• TAKEDA, S. Photocatalytic TiO_2 thin film deposited onto glass by DC magnetron sputtering. Thin Solid Films. 2001, 392, 338-344
• ZEMAN, P. Effect of total and oxygen partial pressures on structure of photocatalytic TiO_2 films sputtered on unheated substrate. Surf. Coat. Technol. 2002, 153, 93-99

Terms in the title (5)： ガスフロー ,  スパッタ法 ,  光触媒活性 ,  TiO2 ,  堆積