Art

J-GLOBAL ID：200902226696137757   Reference number：09A0447345

Fabrication of X-Ray Gratings Using X-Ray Lithography Technique for X-Ray Talbot Interferometer

X線リソグラフィー法を用いたX線Talbot干渉計用のX線格子の作製

Author (4)： NODA Daiji (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  TSUJII Hiroshi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  TAKAHASHI Naoki (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  HATTORI Tadashi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 156  Issue： 5  Page： H299-H302  Publication year： 2009 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *diffraction grating ,  *X-ray interferometer ,  *X-ray image ,  X ray lithography ,  photomask ,  electrodeposition ,  Gold ,  supercritical fluid ,  carbon dioxide ,  chemical cleaning ,  Mus musculus ,  Talbot effect ,  mask ,  Myomorpha

JST classification (2)： X-ray instruments and techniques  (BA02060D) ,  Other chemistry in general  (CA01060X)

Terms in the title (5)： X線リソグラフィー ,  X線Talbot干渉計 ,  X線 ,  格子 ,  作製