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J-GLOBAL ID：200902227960214435   Reference number：05A0214860

Nonuniformity in Ultrathin SiO₂ on Si(111) Characterized by Conductive Atomic Force Microscopy

伝導原子間力顕微鏡法により特性評価したSi(111)上の長薄膜SiO₂中の不均一性

Author (4)： HASUNUMA R (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  OKAMOTO J (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  TOKUDA N (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  YAMABE K (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 11B  Page： 7861-7865  Publication year： Nov. 30, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： atomic force microscope ,...

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JST classification (2)： Metal-insulator-semiconductor structures  (BM03085X) ,  Electric conduction in semiconductors and insulators in general  (BM03041P)

Reference (21)：

• 1) T. Tanamoto and A. Toriumi: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 1439.
• 2) S. J. O’shea, R. M. Atta, M. P. Murrell and M. E. Welland: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>13</B> (1995) 1945.
• 3) R. Hasunuma, A. Ando, K. Miki and Y. Nishioka: Appl. Surf. Sci. 162–163 (2000) 547.
• 4) A. Ando, R. Hasunuma, T. Maeda, K. Sakamoto, K. Miki, Y. Nishioka and T. Sakamoto: Appl. Surf. Sci. 162–163 (2000) 401.
• 5) M. Murata, N. Tokuda, D. Hojo and K. Yamabe: Thin Solid Films 414 (2002) 56.

Terms in the title (7)： 伝導 ,  原子間力顕微鏡法 ,  特性評価 ,  Si ,  薄膜 ,  SiO2 ,  不均一性