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J-GLOBAL ID：200902227971575405   Reference number：09A0434206

Annealing Process without Thermal Damage of Substrate by Laser Annealing for Electronic Ceramics Thick Films Fabricated by Aerosol Deposition Technique

レーザー援用エアロゾルデポジション法による基材の熱ダメージを抑えた電子セラミックス厚膜の熱処理プロセス

Author (2)： BABA SO (産業技術総合研) ,  AKEDO JUN (産業技術総合研)
Material： 粉体および粉末冶金  (Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy)
Volume： 56  Issue： 4  Page： 177-182  Publication year： Apr. 15, 2009 
JST Material Number： F0691A  ISSN： 0532-8799  CODEN： FOFUA2  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *vapor deposition ,  aerosol (suspended solids) ,  *lead zirconate titanate ,  Stainless Steel ,  *laser annealing ,  electroceramics ,  *residual polarization ,  coercive electric field ,  substrate (plate)
Semi thesaurus term： PZT ,  *aerosol deposition method ,  laser annealing

JST classification (1)： Manufacturing of ceramics and ceramic whiteware  (YC03020V)

Reference (18)：

• 1) J. Akedo and M. Lebedev: "Microstructure and Electrical Properties of Lead Zirconate Titanate (Pb(Zr₅₂/Ti₄₈)O₃) Thick Films Deposited by Aerosol Deposition Method", Jpn. J. Appl. Phys., 38 (1999) 5397-5401.
• 2) S. Baba and J. Akedo: "Damage-Free and Short Annealing of Pb(Zr, Ti)O₃ Thick Films Directly Deposited on Stainless Steel Sheet by Aerosol Deposition with CO₂ Laser Radiation", J. Am. Ceram. Soc., 88 (2005) 1407-1410.
• 3) A. L. Schawlow and C. H. Townes: "Infrared and Optical Masers", Phys. Rev., 112 (1958) 1940-1949.
• 4) T. H. Maiman: "Stimulated Optical Radiation in Ruby", Nature, 187 (1960) 493-494.
• 5) K. Sakaike, S. Higashi, H. Murakami, and S. Miyazaki: "Crystallization of Amorphous Ge Films Induced by Semiconductor Diode Laser Annealing", Thin Solid Films, 516 (2008) 3595-3600.

Terms in the title (7)： レーザー ,  援用 ,  エアロゾルデポジション法 ,  ダメージ ,  電子セラミックス ,  厚膜 ,  熱処理プロセス