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J-GLOBAL ID：200902228360940651   Reference number：09A1294779

Counter-facing plasma focus system as a repetitive and/or long-pulse high energy density plasma source

反復型、及び/または、長パルス高エネルギー密度プラズマ源としての対面型プラズマ集中システム

Author (3)： AOYAMA Yutaka (Dep. of Energy Sciences, Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 ...) ,  NAKAJIMA Mitsuo (Dep. of Energy Sciences, Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 ...) ,  HORIOKA Kazuhiko (Dep. of Energy Sciences, Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 ...)
Material： Physics of Plasmas  (Phys Plasmas)
Volume： 16  Issue： 11  Page： 110701  Publication year： Nov. 2009 
JST Material Number： T0641B  ISSN： 1070-664X  CODEN： PHPAEN  Document type： Article
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： 反復 ,  パルス ,  高エネルギー密度 ,  プラズマ源 ,  対面 ,  プラズマ