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J-GLOBAL ID：200902232250219679   Reference number：08A0929923

A Thin Film Approach to Engineering Functionality into Oxides

酸化物に機能を作りこむための薄膜アプローチ

Author (5)： SCHLOM Darrell G. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  CHEN Long-Qing (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  PAN Xiaoqing (Univ. Michigan, Michigan) ,  SCHMEHL Andreas (Univ. Augsburg, Augsburg, DEU) ,  ZURBUCHEN Mark A. (Aerospace Corp., California)
Material： Journal of the American Ceramic Society  (J Am Ceram Soc)
Volume： 91  Issue： 8  Page： 2429-2454  Publication year： Aug. 2008 
JST Material Number： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *oxide ,  function(performance) ,  *ferroelectricity ,  *ferromagnetism ,  *thin film ,  chemical vapor deposition ,  *monoatomic layer ,  accuracy ,  control ,  *MBE growth ,  *laser deposition ,  device structure ,  heterojunction ,  pulsed laser deposition
Semi thesaurus term： ALD ,  high accuracy ,  molecular beam epitaxial growth ,  hetero-structure

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (2)： 酸化物 ,  薄膜